重生千禧大玩家 第1099节 (第1/2页)
“了不起啊，小陆，你们了不起啊。” 沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65nm干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！” “哪里，哪里，领导。” 陆飞露出谦虚而内敛的笑容。 “说说吧，到底是怎么搞出来的？” 沙领导眼里满是赞赏之色。 “其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。” 陆飞笑道：“duv浸润式光刻机能成功，完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们，是他们的血汗和信念，才有了今天的光刻机，当然也离不开领导们的支持，地方上的政策，还有相关公司、院校、国企单位的合作。” 顿了顿，“可以说，这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心，也代表着目前国内光刻机的最高水平，距离国际一线的euv光刻机，只有一代的代差了。” “生产7nm的良品率是多少？” 郑韩脸上挂着得意的笑容。 毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。 “不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70％，慢慢调试改进，可以达到80％。” 陆飞比比画画道：“完全可以比肩amsl，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7nm制程工艺。” 沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗？” 陆飞点了下头，“没错，7nm是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5nm。” “5nm是不是就需要euv光刻机了？” 郑韩好奇道。 “有euv光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有euv光刻机也无妨，有这台duv浸润式光刻机也可以做到。” 陆飞露出个看似轻松的笑容。 “喔？” 顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。 “梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。 一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？” “还有良率。” “是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……” 领导们来回分析，议论纷纷。 陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前euv光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。” “比如呢？” 沙领导投去问询的目光。 “光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。” 陆飞直说道：“amsl、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给amsl、尼康，但绝对不会出口给我们。” 然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了duv浸润式的物镜系统，至于euv的，恐怕需要很长一段时间。” “那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？” 郑韩皱了皱眉。 “肯定会，但好在情况并不糟糕。” 陆飞笑道：“虽然5nm是目前我们的极限，理论上而言，台积电、英特尔、三星这些有euv光刻机的，制程工艺甚至可以冲击到1nm，但得到的回报并不会太高。” 不少领导感到奇怪，“为什么这么说？制程工艺难道不是越先进越好嘛？” “理论上是这样，但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势，搭载5nm芯片的手机体验，未必就不如3nm，就会让3nm及以下工艺陷入一种尴尬的地步，飙升的成本却只得到微弱的性能提升。” 陆飞嘿然一笑，“反倒是28nm、14nm和7nm这三个节点的工艺才是市场主流，特别是我们国内绝大部份的芯片需求，所以有了国产的duv浸润式光刻机，基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子，也能保证支撑到我们研发出euv光刻机的那一天。” 众人两两相望，相视一笑。 确实，28nm是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。 除了对功耗要求比较高的cpu、gpu、ai芯片外，其余的工业级芯片用的都是28nm以上的技术，比如电视、空调、汽车、高铁、火箭、卫星、工业机器人、电梯、医疗设备、智能手环、无人机……
请记住本站永久域名
地址1→wodesimi.com
地址2→simishuwu.com
地址3→simishuwu.github.io
邮箱地址→simishuwu.com@gmail.com